2020年9月23日
Reactive Force-Field Molecular Dynamics Study of the Silicon-Germanium Deposition Processes by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
2020 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices
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- 開催年月日
- 2020年9月23日 - 2020年10月6日
- 記述言語
- 英語
- 会議種別
- 口頭発表（一般）