論文

査読有り
2018年10月

Resistive switching at the high quality metal/insulator interface in Fe3O4/SiO2/α-FeSi2/Si stacking structure

Applied Physics Letters
  • Takafumi Ishibe
  • ,
  • Tsubasa Kurokawa
  • ,
  • Nobuyasu Naruse
  • ,
  • Yoshiaki Nakamura

113
開始ページ
141601
終了ページ
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
DOI
10.1063/1.5048827

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1063/1.5048827
ID情報
  • DOI : 10.1063/1.5048827

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