1987年8月
INSITU IR SPECTROSCOPIC STUDY OF A-SI-H THIN-FILMS UNDER PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION CONDITIONS
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
- ,
- 巻
- 134
- 号
- 8B
- 開始ページ
- C444
- 終了ページ
- C444
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究発表ペーパー・要旨(国際会議)
- 出版者・発行元
- ELECTROCHEMICAL SOC INC
- リンク情報
- ID情報
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- ISSN : 0013-4651
- Web of Science ID : WOS:A1987J647200598