特許権 触媒層形成用組成物、及び、触媒層の製造方法 独立行政法人日本原子力研究開発機構 陳 進華, 浅野 雅春, 前川 康成 出願番号 特願2011-042865 出願日 2011年2月28日 公開番号 特開2012-181961 公開日 2012年9月20日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201203092390731810 ID情報 J-Global ID : 201203092390731810