産業財産権

特許権

プロトン伝導性高分子電解質膜の製造方法

日東電工株式会社, 独立行政法人日本原子力研究開発機構
  • 樋口 浩之
    • ,
  • 大泉 新一
    • ,
  • 江守 秀之
    • ,
  • 橘 俊光
    • ,
  • 森 恵一
    • ,
  • 鈴木 弘世
    • ,
  • 浅野 雅春
    • ,
  • 前川 康成
出願番号
特願2010-209098
出願日
2010年9月17日
公開番号
特開2012-062426
公開日
2012年3月29日
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201203052479338877
ID情報
  • J-Global ID : 201203052479338877
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