山川進二 (Shinji Yamakawa) - マイポータル

基本情報

所属: 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授

学位: 博士（工学）(2019年3月東京工業大学)

研究者番号: 90876252
J-GLOBAL ID: 202001010541924789
researchmap会員ID: R000007020

外部リンク: https://www.lasti.u-hyogo.ac.jp/sr-nanotechnology/index.html

研究キーワード

研究分野

経歴

2024年10月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授
2020年4月 - 2024年9月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教
2019年4月 - 2020年3月

東京工業大学, 化学生命科学研究所, 特任助教

学歴

2016年4月 - 2019年3月

東京工業大学大学院, 物質理工学院博士後期課程, 応用化学系
2014年4月 - 2016年3月

関西大学大学院, 理工学研究科博士課程前期課程, 化学・物質工学科
2010年4月 - 2014年3月

関西大学, 化学生命工学部, 化学・物質工学科

委員歴

2024年1月 - 現在

フォトポリマー学会, 国際学術誌出版委員長
2021年 - 現在

フォトポリマー学会, ICPST組織委員会

受賞

2023年6月

フォトポリマー科学技術賞論文賞, フォトポリマー学会

主要な論文

Investigation of solvent effects on the distribution of resist compositions using resonant soft X-ray scattering

Kouji Kuramoto, Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Japanese Journal of Applied Physics 64(6) 06SP24-06SP24 2025年6月1日査読有り責任著者
Polymerization of 1,3-butadiene catalyzed by Co(ii) and Ni(ii) complexes of 6,6′-dihydroxy-2,2′-bipyridine ligands: 1,4-cis-polymerization versus isospecific 1,2-polymerization

Shinji Yamakawa, Daisuke Takeuchi, Kohtaro Osakada, Shigenaga Takano, Shojiro Kaita

RSC Advances 15 12557-12562 2025年4月22日査読有り筆頭著者
Observation Result of Chemical Composition Distribution of Resist Thin Film by Photoemission Electron Microscopy

Tsukasa Sasakura, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 585-590 2024年12月25日査読有り責任著者
Current Status of EUV Flood Exposure Tool at NewSUBARU BL03

Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 579-584 2024年12月25日査読有り責任著者
The x-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-tone PAG bound resist

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 2023年11月21日筆頭著者責任著者
Present Status of EUV Interference Lithography at NewSUBARU

Rikuya Imai, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 53-59 2023年6月15日査読有り責任著者
Characterization of Photoacid Generator Bound Resist with X-ray Absorption Spectroscopy at NewSUBARU

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Koji Nakanishi, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 47-52 2023年6月15日査読有り筆頭著者責任著者
Spatial Distribution Analysis of Polymers in Resist Thin Film by Reflection-mode Resonant Soft X-ray Scattering

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 41-45 2023年6月15日査読有り責任著者
Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 61-65 2022年12月16日査読有り責任著者
Affinity Analysis of Photoacid Generator in the Thin Film of Chemical Amplification Resist by Contact Angle Measurement

Shinji Yamakawa, Ako Yamamoto, Seiji Yasui, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada

Journal of Photopolymer Science and Technology 34(1) 111-115 2021年6月11日査読有り筆頭著者責任著者
Copolymerization of 1,3-butadiene and norbornene catalyzed by Ni complexes [1]

Shinji Yamakawa, Daisuke Takeuchi, Kohtaro Osakada, Shigenaga Takano, Shojiro Kaita

Reactive and Functional Polymers 136 19-24 2019年3月査読有り筆頭著者

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主要なMISC

レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年責任著者

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主要な講演・口頭発表等

NewSUBARU放射光施設を利用したEUV露光用レジスト材料等の開発支援

山川進二

第12回SPring-8次世代先端デバイス研究会/ 第103回SPring-8先端利用技術ワークショップ「シリコン半導体デバイスおよびその製造を支える材料の現状と放射光利用」 2024年11月20日招待有り
Outgas evaluation of cable materials for EUV lithography system

Kazuki Hosoda, Takashi Namikawa, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024 2024年9月30日
Influence of the solvent in resist solution and thin films on aggregation size of chemical components

Shinji Yamakawa, Kouji Kuramoto, Yuri Ebuchi, Atsunori Nakamoto, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

The 41st International Conference of Photopolymer Science and Technology 2024年6月27日
軟X線共鳴散乱法を用いたレジスト中の溶媒効果の検討

江渕友梨, 山川進二, 藏本晃士, 原田哲男, 渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム2024 2024年3月14日
The X-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-tone PAG bound resist

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 2023年10月2日
Analysis of the Chemical Component Distribution in EUV Resist Thin Films by Soft X-Ray

Shinji Yamakawa, Atsunori Nakamoto, Shuhei Iguchi, Tsukasa Sasakura, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

International Polymer Conference 2023 2023年7月
Characterization of Photoacid Generator Bound Resist with X-Ray Absorption Spectroscopy at NewSUBARU

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Koji Nakanishi, Takeo Watanabe

The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2023年6月
Fundamental evaluation of KrF resist changing formulation by EB and EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroki Yamamoto

The 40th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2023年6月
Development of EUV resist sensitivity measurement tool for 300-mm Si substrate

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

New Generation Lithography 2022 2022年7月
Comparison of photoresist sensitivity between KrF, EB and EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2022年6月
Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement

Tomohito Kizu, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Seiji Yasui, Tomoyuki Shibagaki

The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2022年6月
化学増幅型レジスト薄膜における光酸発生剤の組成分布およびレジスト特性評価

山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

第70回高分子討論会 2021年9月
Spatial Distribution Analysis of Chemical Components in a Chemical Amplification Resist Thin Film

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

New Generation Lithography 2021 2021年7月
Affinity Analysis of Photoacid Generator in the Thin Film of Chemical Amplification Resist by Contact Angle Measurement

Shinji Yamakawa, Ako Yamamoto, Seiji Yasui, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada

The 38th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2021年6月
Synthesis and property of high oxidative durable anion exchange membrane

Shinji Yamakawa, Shoji Miyanishi, Takeo Yamaguchi

International Congress on Membranes & Membrane Processes 2020 2020年12月
ニッケル錯体触媒を用いたアルミニウムフリーなノルボルネンの重合

山川進二, 小泉武昭, 岡本健

第66回高分子研究発表会（神戸） 2020年7月
ジヒドロキシビピリジンニッケル錯体触媒を用いた1,3-ブタジエンの選択的重合

山川進二, 小坂田耕太郎, 竹内大介, 会田昭二郎, 高野重永

第68回高分子討論会 2019年9月

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担当経験のある科目(授業)

2021年9月 - 現在

材料放射光実験III (兵庫県立大学)
2021年9月 - 現在

放射光科学のフロンティア（オムニバス形式） (兵庫県立大学)
2021年9月 - 現在

先端科学を学ぶ（副専攻集中講義） (兵庫県立大学)
2020年10月 - 現在

機械・材料工学実験 (兵庫県立大学)

所属学協会

2024年4月 - 現在

応用物理学会
2023年1月 - 現在

日本放射光学会
2021年7月 - 現在

SPIE
2020年 - 現在

フォトポリマー学会
2014年 - 現在

高分子学会

主要な共同研究・競争的資金等の研究課題

波長スキャン型軟X線共鳴散乱法による固体高分子表面の組成分布解析

公益財団法人東京応化科学技術振興財団研究費の助成事業 2025年4月

山川進二, 原田哲男
ニュースバル放射光施設の光電子顕微鏡を用いた火山噴出物の解析

公益財団法人ひょうご科学技術協会公益財団法人ひょうご科学技術協会学術研究助成制度 2023年4月 - 2025年3月

佐野恭平, 山川進二
フォトレジスト薄膜中における化学組成分布がパターン線幅粗さに与える影響の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究若手研究 2021年4月 - 2024年3月

山川進二

産業財産権

WO2020-116037 ポリブタジエン、ポリブタジエンの製造方法、ポリブタジエン組成物、タイヤ、及び樹脂部材

高野重永, 会田昭二郎, 小坂田耕太郎, 竹内大介, 山川進二
特許第7090626号重合触媒組成物、重合体の製造方法、重合体、ゴム組成物およびタイヤ

高野重永, 会田昭二郎, 小坂田耕太郎, 竹内大介, 山川進二

山川進二

基本情報

研究キーワード

研究分野

経歴

学歴

委員歴

受賞

主要な論文

主要なMISC

主要な講演・口頭発表等

担当経験のある科目(授業)

所属学協会

主要な共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

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