論文

査読有り
2018年9月

Properties of TlZnSnO film fabricated via sputtering from TlZnSnO target

Journal of Physics D: Applied Physics
  • K. Kishimoto
    • ,
  • Y. Ishikawa
    • ,
  • M. Fujii
    • ,
  • Y. Nose
    • ,
  • Y. Uraoka
巻
51
号
41
開始ページ
415103
終了ページ
記述言語
英語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
DOI
10.1088/1361-6463/aadccf
出版者・発行元
IOP Publishing
リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1088/1361-6463/aadccf
Web of Science
https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:000444074500001&DestApp=WOS_CPL
ID情報
  • DOI : 10.1088/1361-6463/aadccf
  • ISSN : 0022-3727
  • eISSN : 1361-6463
  • Web of Science ID : WOS:000444074500001
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