産業財産権

特許権

成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置

  • 醍醐佳明

出願番号
US14253169
出願日
2014年
特許番号/登録番号
US9309606 B2
登録日
発行日
2016年