2020年
HCl環境下でのSiC CVD成長における気相反応と表面構造の予測
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
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- 巻
- 67th
- 号
- 開始ページ
- 3152
- 終了ページ
- 3152
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- DOI
- 10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_3152
- 出版者・発行元
- 公益社団法人 応用物理学会
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_3152
- ISSN : 2436-7613
- eISSN : 2436-7613
- J-Global ID : 202002244943894180
- CiNii Research ID : 1390573715144242432