本研究では、酸化亜鉛表面からの電子の再結合を抑制する手段として、酸化亜鉛微粒子膜上に酸化チタン膜を原子層堆積法(atomic layer deposition,ALD)により製膜し、酸化亜鉛電極の機能向上を目指した。スクリーン印刷法と溶解再析出反応を用いることで酸化亜鉛電極を低温製膜し、ALDにより酸化チタン膜を被覆、増感色素を各半導体膜に担持して太陽電池を作製し、電池性能を評価した。その結果、酸化チタン膜の表面修飾により再結合反応が抑制されて開放電圧が増加した一方、吸収光子変換効率の低下のためと考えられる短絡電流密度の減少があった。このため、変換効率は4.4%→2.8%となったが全て低温プロセスにより作製できることから、フレキシブル太陽電池への応用が期待できる。