2021年
超音速酸素分子線照射によるHfSi2/Si(111)表面の酸化と反応障壁高さ
日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)
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- 巻
- 2021
- 号
- 開始ページ
- 3P01
- 終了ページ
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- DOI
- 10.14886/jvss.2021.0_3p01
- 出版者・発行元
- 公益社団法人 日本表面真空学会
本研究では、Si(111)表面にハフニウムジシリサイド(HfSi2)を作製し、異なる並進運動エネルギーを持った超音速酸素分子線を照射した直後に放射光軟X線光電子分光法を行うことで、その酸化過程と反応障壁に関する研究を行った。得られたHf 4f、Si 2p、O 1s内殻光電子スペクトルを成分分離し、比較することで、直接解離吸着における表面構造に由来した反応障壁高さの違いを議論する。
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.14886/jvss.2021.0_3p01
- ISSN : 2434-8589
- eISSN : 2434-8589
- J-Global ID : 202202292619186413
- CiNii Articles ID : 130008134203
- CiNii Research ID : 1390290493078596224