由比藤崇 (Takashi Yuito) - マイポータル

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J-GLOBAL ID: 202101018191621484
researchmap会員ID: R000023240

論文

Application of Riblets to Wind Turbine Blades

Takaya Higashino, Naho Yanase, Takahiro Kurashima, Shintaro Tsuchihashi, Takashi Yuito, Andreas Flanschger, Kubo Noritsugu, Motofumi Tanaka, Noritsugu Miyata, Yasunobu Oka

AIAA SCITECH 2025 Forum 2025年1月3日査読有り
Experimental investigation of the effect of laser processed riblet on improvement of the race car performance

S. Tsuchihashi M. Nakayama, T. Yuito, K. Naito, G. Ichinose, T. Amazawa, T. Oyama, Y. Kato, P. Leitl, A. Flanschger, A. Rodriguez …

AIAA SCITECH 2024 Forum 2024年1月4日査読有り
Computational study of the focus monitoring with sub-wavelength grating in optical lithography

Takashi Yuito, Masaru Sasago, Yoshihiko Hirai

Journal of Photopolymer Science and Technology 33(1) 57-62 2020年査読有り
Mask enhancer technology with source mask optimization (SMO) for 2Xnm-node logic layout gate fabrication

Takashi Matsuda, Shigeo Irie, Tadami Shimizu, Takashi Yuito, Yasuko Tabata, Yuuji Nonami, Akio Misaka, Taichi Koizumi, Masaru Sasago

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 7973 2011年
Fundamental study of the mask topography effect on the advanced phase-shifting masks for next-generation lithography

Takashi Yuito, Akio Misaka, Masaru Sasago

Japanese Journal of Applied Physics 49(6 PART 2) 2010年6月査読有り
Mask enhancer technology for sub-100nm pitch random logic layout contact hole fabrication

Takashi Yuito, Hiroshi Sakaue, Takashi Matsuda, Tadami Shimizu, Shigeo Irie, Fumio Iwamoto, Akio Misaka, Taichi Koizumi, Masaru Sasago

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 7640 2010年
"Mask enhancer" technology on ArF immersion tool for 45-nm-node complementary metal oxide semiconductor with 0.249 μm² static random access memory contact layer fabrication

Takashi Yuito, Vincent Wiaux, Lieve Van Look, Geert Vandenberghe, Shigeo Irte, Takahiro Matsuo, Akio Misaka, Masayuki Endo, Masaru Sasago

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers 45(6 B) 5396-5403 2006年6月20日査読有り
"Mask Enhancer" technology for 45-nm node contact hole fabrication

Takashi Yuito, Vincent Wiaux, Lieve Van Look, Geert Vandenberghe, Shigeo Irie, Takahiro Matsuo, Akio Misaka, Hisashi Watanabe, Masaru Sasago

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 5754(PART 3) 1377-1387 2005年
Fresnel diffraction mask for focus monitoring

Takashi Yuito, Hisashi Watanabe

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 22(3) 977-980 2004年査読有り
Effects of disorder on conductance oscillations in semiconductor-superconductor junctions in a magnetic field

Y. Asano, T. Yuito

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics 62(11) 7477-7482 2000年9月15日

MISC

リブレット技術による空力性能向上の最前線 ─レースカー・航空機・風車への実用化

中山睦月, 由比藤崇

自動車技術 79(10) 42-49 2025年9月査読有り招待有り最終著者
リソグラフィ装置

由比藤崇

電子材料 2007年

講演・口頭発表等

レーザー干渉によるリブレット高速加工技術で実現する燃費節約・CO2排出量削減

Stephen Wells, 内藤兼行, 稲崎慎也, 箱田文彦, 由比藤崇, Michiel Top, Tobias Köhler, Lukas Schulz, Tobias Dyck

第63回飛行機シンポジウム 2025年10月17日
Novel laser processed riblet film for aircraft to improve fuel efficiency and CO2 emissions reduction

Takashi Yuito, Nikon Corporation, Koshiro Matsui, All Nippoin Airways

INTAIRCOAT 2023 2023年6月8日招待有り
マスクエンハンサーを用いた45nmノードリソグラフィ

清水但美, 由比藤崇, 入江重夫, 三坂章夫, 岸村真治, 渡辺尚志, 遠藤政孝, 笹子勝

電子情報通信学会技術研究報告 2005年
Mask enhancer technology on ArF immersion tool for 45nm-node CMOS with 0.249μm² SRAM contact layer fabrication

Takashi Yuito, Vincent Wiaux, Lieve Van Look, Geert Vandenberghe, Shigeo Irie, Takahiro Matsuo, Akio Misaka, Masayuki Endo, Masaru Sasago

Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2005: 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2005年
エンハンサーマスクを用いた異サイズコンタクトホールの同時形成

由比藤崇, 松尾隆弘, 三坂章夫, 渡辺尚志, 笹子勝

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 2004年
Impact of mask enhancer on 65-nm node contacts

A. Misaka, T. Matsuda, T. Yuito, T. Matsuo, T. Koizumi, H. Watanabe, M. Sasago

Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2003 - 2003 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2003 2003年

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