日比野祐介 (Yusuke Hibino) - マイポータル

基本情報

所属: 佐世保工業高等専門学校電気電子工学科助教

学位: 工学博士(2021年3月明治大学)

研究者番号: 20910045
ORCID ID: https://orcid.org/0000-0002-9175-9324
J-GLOBAL ID: 202101015708606589
researchmap会員ID: R000022387

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研究分野

論文

Investigation of the Chemical Reaction between Silver Electrodes and Transparent Conductive Oxide Films for the Improvement of Fill Factor of Silicon Heterojunction Solar Cell

Tappei Nishihara, Kazuo Muramatsu, Kyotaro Nakamura, Satoshi Yasuno, Yoshio Ohshita, Hiroki Kanai, Yutaka Hara, Yusuke Hibino, Haruki Kojima, Atsushi Ogura

ECS Journal of Solid State Science and Technology 10(5) 2021年5月10日
The Electronic and Physical Structure Evaluation of MoS2(1−x)Te2x Alloy Fabricated with Co-Sputtering and Post-Deposition Annealing in Chalcogen Ambient

Yusuke Hibino, Kota Yamazaki, Yusuke Hashimoto, Yosuke Otsuka, Naomi Sawamoto, Hideaki Machida, Masato Ishikawa, Hiroshi Sudoh, Hitoshi Wakabayashi, Atsushi Ogura

ECS Journal of Solid State Science and Technology 9(9) 093018-093018 2020年12月1日
Enlargement of grain size for MoS2 film fabricated by RF magnetron sputtering with additional DC bias by optimization of deposition parameters and its evaluation with Raman spectroscopy

Y. Oyanagi, Y. Hibino, N. Sawamoto, H. Wakabayashi, A. Ogura

Japanese Journal of Applied Physics 59(6) 065502-065502 2020年6月1日
The Physical and Chemical Properties of MoS2(1-x)Te2x Alloy Synthesized by Co-sputtering and Chalcogenization and Their Dependence on Fabrication Conditions

Yusuke Hibino

MRS Advances 2020年3月10日
Fabrication of 2D Layered Materials by Sputtering Deposition

Yusuke Hibino

Vacuum and Surface Science 2019年10月10日
Suppression of Sulfur Desorption of High-Temperature Sputtered MoS2Film by Applying DC Bias

Yusuke Hibino

ECS Transactions 2018年6月19日
Investigation on Mo1− x W x S2 fabricated by co-sputtering and post-deposition sulfurization with (t-C4H9)2S2

Yusuke Hibino

Japanese Journal of Applied Physics 57(6) 2018年6月1日
MOCVD of Monolayer MoS2 using Novel Molybdenum Precursor i-Pr2DADMo(CO)3

S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, H. Machida, H. Wakabayashi, A. Ogura

MRS Advances 3(6-7) 379-384 2018年
Investigation of Novel Te precursor (i-C3H7)2Te for MoTe2 Fabrication

Yusuke Hibino

MRS Advances 3(6-7) 321-326 2018年
Band gap-tuned MoS2(1−x)Te2x thin films synthesized by a hybrid Co-sputtering and post-deposition tellurization annealing process

Yusuke Hibino

Journal of Materials Research 32(16) 3021-3028 2017年8月
Quantitative relationship between sputter-deposited-MoS<inf>2</inf> properties and underlying-SiO<inf>2</inf> surface roughness

Takumi Ohashi, Iriya Muneta, Kentaro Matsuura, Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Atsushi Ogura, Hitoshi Wakabayashi

Applied Physics Express 10(4) 2017年4月
Quantitative relationship between sputter-deposited-MoS2 properties and underlying-SiO2 surface roughness

Takumi Ohashi, Iriya Muneta, Kentaro Matsuura, Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Atsushi Ogura, Hitoshi Wakabayashi

APPLIED PHYSICS EXPRESS 10(4) 2017年4月
Effects of Reaction Conditions on MoS2 Thin Film Formation Synthesized by Chemical Vapor Deposition using Organic Precursor

S. Ishihara, Y. Hibino, N. Sawamoto, T. Ohashi, K. Matsuura, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudo, H. Wakabayashi, A. Ogura

MRS Advances 2(29) 1533-1538 2017年
Investigation on MoS2(1-x)Te2x Mixture Alloy Fabricated by Co-sputtering Deposition

Yusuke Hibino

MRS Advances 2(29) 1557-1562 2017年
Properties of single-layer MoS<inf>2</inf> film fabricated by combination of sputtering deposition and post deposition sulfurization annealing using (t-C<inf>4</inf>H<inf>9)2</inf>S<inf>2</inf>

Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Kohei Suda, Takumi Ohashi, Kentarou Matsuura, Hideaki Machida, Masato Ishikawa, Hiroshi Sudoh, Hitoshi Wakabayashi, Atsushi Ogura

Japanese Journal of Applied Physics 55(6) 2016年6月
Properties of single-layer MoS

Ishihara Seiya, Hibino Yusuke, Sawamoto Naomi, Suda Kohei, Ohashi Takumi, Matsuura Kentarou, Machida Hideaki, Ishikawa Masato, Sudoh Hiroshi, Wakabayashi Hitoshi, Ogura Atsushi

Jpn. J. Appl. Phys. 55(6) 06GF01 2016年4月11日
Improving crystalline quality of sputtering-deposited MoS<inf>2</inf> thin film by postdeposition sulfurization annealing using (t-C<inf>4</inf>H<inf>9</inf>)<inf>2</inf>S<inf>2</inf>

Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Kohei Suda, Takumi Ohashi, Kentarou Matsuura, Hideaki Machida, Masato Ishikawa, Hiroshi Sudoh, Hitoshi Wakabayashi, Atsushi Ogura

Japanese Journal of Applied Physics 55(4) 2016年4月
Large scale uniformity of sputtering deposited single- and few-layer MoS<inf>2</inf> investigated by XPS multipoint measurements and histogram analysis of optical contrast

Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Takumi Ohashi, Kentarou Matsuura, Hideaki Machida, Masato Ishikawa, Hitoshi Wakabayashi, Atsushi Ogura

ECS Journal of Solid State Science and Technology 5(11) Q3012-Q3015 2016年
Large Scale Uniformity of Sputtering Deposited Single- and Few-Layer MoS2 Investigated by XPS Multipoint Measurements and Histogram Analysis of Optical Contrast

Seiya Ishihara, Yusuke Hibino, Naomi Sawamoto, Takumi Ohashi, Kentarou Matsuura, Hideaki Machida, Masato Ishikawa, Hitoshi Wakabayashi, Atsushi Ogura

ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY 5(11) Q3012-Q3015 2016年
Evaluation of sputtering deposited 2-diniensional M0S<inf>2</inf> film by Raman spectroscopy

S. Ishihara, K. Suda, Y. Hibino, N. Sawamoto, T. Ohashi, S. Yamaguchi, K. Matsuura, H. Machida, M. Ishikawa, H. Sudoh, H. Wakabayashi, A. Ogura

Materials Research Society Symposium Proceedings 1781 11-16 2015年

講演・口頭発表等

電子ビーム蒸着Mo薄膜の(t-C4H9)2S2を用いた硫化による層状MoS2の形成

日比野祐介, 石原聖也, 澤本直美, 大橋匠, 松浦賢太郎, 町田英明, 石川真人, 須藤弘, 若林整, 小椋厚志

応用物理学会第76回秋季学術講演会 2015年9月15日

担当経験のある科目(授業)

2021年4月 - 現在

電気磁気学 (佐世保工業高等専門学校)

共同研究・競争的資金等の研究課題

紫外発光素子に向けた多粒界による強発光強度スパッタリング六方晶窒化ホウ素の作製

日本学術振興会科学研究費助成事業研究活動スタート支援 2021年8月 - 2023年3月

日比野祐介
有機気相成長法による単結晶遷移金属ダイカルコゲナイド混晶作製および電子構造の解明

日本学術振興会科学研究費助成事業特別研究員奨励費 2018年4月 - 2021年3月

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