1993年3月
FABRICATION OF SUBMICRON APERTURES IN THIN MEMBRANES OF SILICON-NITRIDE
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
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- 巻
- 11
- 号
- 2
- 開始ページ
- 259
- 終了ページ
- 262
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.1116/1.586667
- 出版者・発行元
- A V S AMER INST PHYSICS
A technique for manufacturing submicron apertures used for investigating hydrodynamic quantum phenomena in the superfluids He-4 and He-3 is described. The apertures are fabricated in approximately 100 nm thick suspended membranes of silicon nitride by using e-beam lithography and reactive ion etching.
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.1116/1.586667
- ISSN : 1071-1023
- Web of Science ID : WOS:A1993KY05000022