産業財産権

特許権

高分子ゲルおよびその製造方法

国立大学法人 北海道大学
  • ▲ぐん▼ 剣萍
    • ,
  • 古川 英光
    • ,
  • 黒川 孝幸
    • ,
  • 黒田 慎也
    • ,
  • 中島 祐
出願番号
特願2008-025667
出願日
2008年2月5日
公開番号
特開2009-185156
公開日
2009年8月20日
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200903066520680760
ID情報
  • J-Global ID : 200903066520680760
産業財産権リストへ