特許権 金属酸化物上の均一にサイズ制御された金ナノクラスター及びその製造方法並びにそれを用いた触媒 独立行政法人産業技術総合研究所 藤谷 忠博, 中村 功, 高橋 厚 出願番号 特願2009-100722 出願日 2009年4月17日 公開番号 特開2010-247108 公開日 2010年11月4日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201003058254146760URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/201003058254146760 ID情報 J-Global ID : 201003058254146760
