2011年
In(Ga)As積層量子ドット構造におけるキャリア注入/放出特性のDLTS評価
電子情報通信学会技術研究報告 CPM 電子部品・材料
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- 巻
- 111
- 号
- 176
- 開始ページ
- 7
- 終了ページ
- 10
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- 記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)
- 出版者・発行元
- 一般社団法人電子情報通信学会
Biをサーファクタントとした独自の成長方法によって成長したGaAsP歪補償層を有する10層量子ドットを対象とし、DLTS (Deep Level Transient Spectroscopy)評価を行った。DLTSのパルス幅依存性測定からキャリアの捕獲に長い時間がかかっていることが明らかになったため、キャリア捕獲過程のDLTS測定を試みた。その結果、キャリアの放出と捕獲の過程において、活性化エネルギー等が同様の特性を示すことがわかった。この結果から、双方の過程は共通のバリアで律速されており、共通のバリアはGaAsP歪補償層と考えられることを示した。
- リンク情報
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- CiNii Articles
- http://ci.nii.ac.jp/naid/110008801088
- CiNii Books
- http://ci.nii.ac.jp/ncid/AN10012932
- URL
- http://id.ndl.go.jp/bib/11238883
- ID情報
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- ISSN : 0913-5685
- CiNii Articles ID : 110008801088
- CiNii Books ID : AN10012932