産業財産権

特許権

照射計画装置、照射計画プログラム、照射計画決定方法、および荷電粒子照射システム

  • 稲庭 拓
  • ,
  • 兼松 伸幸
  • ,
  • 古川 卓司
  • ,
  • 白井 敏之
  • ,
  • 野田 耕司

出願番号
特願2012-106365
出願日
2012年5月7日
公開番号
特開2013-233233
公開日
2013年11月21日
特許番号/登録番号
特許第5954705号
登録日
発行日
2016年6月24日

リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201603018295364472
URL
http://jglobal.jst.go.jp/public/201603018295364472
ID情報
  • J-Global ID : 201603018295364472