招待有り 2018年9月 現像時の高分子反応を鍵とする微細パターン形成法：反応現像画像形成 18-2印刷・情報・電子用材料研究会 大山俊幸 開催年月日 2018年9月 - 2018年9月 記述言語 英語 会議種別 口頭発表（招待・特別） 開催地 東京理科大学 森戸記念館（東京)
