特許権 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 国立研究開発法人物質・材料研究機構, サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド 介川 裕章, リ・ワチョル, 宝野 和博, 三谷 誠司, 大久保 忠勝, 劉 軍, 葛西 伸哉, キム・グワンソク 出願番号 特願2016-084773 出願日 2016年4月20日 公開番号 特開2017-005243 公開日 2017年1月5日 特許番号/登録番号 特許第6647590号 登録日 2020年1月17日 発行日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201703011714289306URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/201703011714289306 ID情報 J-Global ID : 201703011714289306
