土肥俊郎 (Toshiroh Doy) - マイポータル - researchmap

基本情報

学位: 工学博士(東京大学)

J-GLOBAL ID: 200901062876939634
researchmap会員ID: 1000203718

外部リンク: http://www.tech.edu.saitama-u.ac.jp/doy/

経歴

5

1988年 - 1997年

埼玉大学教育学部助教授
1997年

- 埼玉大学教育学部教授
1985年 - 1988年

NTT／日本電信電話（株）電子応用研究所主任研究員，主幹研究員
1980年 - 1985年

日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所研究専門調査員
1973年 - 1979年

日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所研究主任

学歴

4

委員歴

9

1994年 - 2001年

精密工学会, 委員長（プラナリゼーション加工・ＣＭＰ応用専門委員会）
2001年

精密工学会, 評議員
1998年 - 2000年

日本学術振興会(第136委員会運営委員，幹事；第145委員会委員), 第136委員会運営委員
1998年 - 2000年

日本オプトメカトロニクス協会（JOEM）, 運営委員
2000年

日本学術振興会(第136委員会運営委員，幹事；第145委員会委員), 同上幹事
2000年

日本オプトメカトロニクス協会（JOEM）, 広報委員
1999年

砥粒加工学会, 理事
1998年

日本学術振興会(第136委員会運営委員，幹事；第145委員会委員), 同会第145委員会会員
1995年

砥粒加工学会, 企画委員長

受賞

7

MISC

74

Control of Edge Polishing Profile with Air Float Carrier

Proc.of ISSM2001 183-186 2001年
A New Planarization CMP Technology for Multi-level Interconnection of ULSIDevices

Proc.of ICCE/8 201-202 2001年
Mechanism of Mechanical and Chemical Polishing in Low Dielectric Constant Plasma-Enhance Chemical Vapor Deposition SiOc layer from Hexamethyldisiloxane

HARA T, TOGOH F, KUROSU T, SAKAMOTO K, SHIOYA Y, ISHIMARU T, DOY T K

Electrochemical and Solid-State Letters 4(8) G65-G67 2001年
Control of Edge Polishing Profile with Air Float Carrier

Proc.of ISSM2001 183-186 2001年
A New Planarization CMP Technology for Multi-level Interconnection of ULSIDevices

Proc.of ICCE/8 201-202 2001年
Mechanism of Mechanical and Chemical Polishing in Low Dielectric Constant Plasma-Enhance Chemical Vapor Deposition SiOc layer from Hexamethyldisiloxane

Electrochemical and Solid-State Letters 4(8) G65-G67 2001年
Direct CMP of low epsilon organic layers by MnO2 slurry

T Hara, T Tomizawa, T Kurosu, TK Doy

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION IN IC DEVICE MANUFACTURING III, PROCEEDINGS 99(37) 261-269 2000年
A New proposal for a Cylindrical Linear Contact Polishing(CMP) System

Ceramics(Polish Ceramic Bulletin) (60) 375-381 2000年
A New Pad Dressing Technique using Super High Pressure Micro Jet in CMP Process

Proc. of Int'l Abrasive Tech.Conf.(ABTEC) 197-204 2000年
超精密ポリシングとその平坦化CMP技術への応用ーCu配線/Low-k層間膜のCMP実現に向けて－

半導体・集積回路技術第５８回シンポジウム講演論文集 (6) 114-119 2000年
New Proposal for a Cylindrical Linear Contact Polishing(CMP) System

Proc. of Int'l Conference Polish Ceramics 2000 234 2000年
Direct CMP of low epsilon organic layers by MnO2 slurry

T Hara, T Tomizawa, T Kurosu, TK Doy

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION IN IC DEVICE MANUFACTURING III, PROCEEDINGS 99(37) 261-269 2000年
A New proposal for a Cylindrical Linear Contact Polishing(CMP) System

Ceramics(Polish Ceramic Bulletin) (60) 375-381 2000年
A New Pad Dressing Technique using Super High Pressure Micro Jet in CMP Process

Proc. of Int'l Abrasive Tech.Conf.(ABTEC) 197-204 2000年
New Proposal for a Cylindrical Linear Contact Polishing(CMP) System

Proc. of Int'l Conference Polish Ceramics 2000 234 2000年
Chemical mechanical polishing of a fluorinated carbon low dielectric constant interlayer and a tantalum nitride barrier layer by magnesium oxide slurry

T Hara, T Tomisawa, T Kurosu, TK Doy, K Sakai

ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS 2(7) 339-341 1999年7月
Chemical mechanical polishing of a fluorinated carbon low dielectric constant interlayer and a tantalum nitride barrier layer by magnesium oxide slurry

T Hara, T Tomisawa, T Kurosu, TK Doy, K Sakai

ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS 2(7) 339-341 1999年7月
New Precision Contouring Process of Lanthanum Hexaboride(LaB6) Crystals Used for Electron Guns

土肥俊郎, 河西敏雄, 大森整

Ceramic Soc. of Jap. 107(1246) 502-509 1999年
New Ultra-Precision & Solid-State Technique Applying Direct Air back Method and Non-foaming Plastic Pad

Proc. of ISSM 231-235 1999年
Chemical Mechanical Polishing of polyarylether Low Dielectric Constant Layers by Magnanese Oxide Slurry

HARA T, TOMISAWA T, KUROSU T, DOY T K

Electrochem. Soc. 146(6) 2333-2336 1999年

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書籍等出版物

9

超精密加工・成形技術と部品化プロセス技術

技術情報協会 2001年
ナノマテリアルの最新技術

株式会社シーエムシー 2001年
Handbook of Ceramics Grinding and Polishing

Noyes Publicaitions 1999年
Handbook of Ceramics Grinding and Polishing

Noyes Publicaitions 1999年
半導体平坦化CMP技術

工業調査会 1998年
Nanotechnology

Oxford Univ.Press 1996年
超精密加工の最先端技術

工業調査会 1996年
シリコンの科学（ＵＣＳ半導体基盤技術研究会）

株式会社リアライズ社 1996年
Nanotechnology

Oxford Univ.Press 1996年

所属学協会

7