2015年4月 - 2018年3月
低カーフロス・薄型太陽電池Siウェハを実現する触媒援用化学的スライシングの開発
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 基盤研究(C)
太陽電池向け材料であるシリコン等のダメージフリー切断加工を目的とした、新たな砥粒フリースライシング法の開発を行った。本加工法は、化学液を加工物に供給しながらワイヤで擦過を行うものであり、従来技術よりも切断幅(カーフロス)を低減させることができる。本研究では、開発技術における加工速度の向上、マルチワイヤ加工、加工物サイズのスケールアップ、フッ酸フリー加工の検討を行った。その結果、従来の機械加工法に比べて、加工速度に課題がみられたものの、より小さなカーフロスでマルチ加工を施すことが可能となった。毒性の高いフッ酸を使用しない加工法として、光ファイバを利用したエッチング法を開発した。
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- 課題番号 : 15K05736
- 体系的課題番号 : JP15K05736