共同研究・競争的資金等の研究課題

2015年4月 - 2018年3月

低カーフロス・薄型太陽電池Siウェハを実現する触媒援用化学的スライシングの開発

日本学術振興会  科学研究費助成事業 基盤研究(C)  基盤研究(C)

課題番号
15K05736
体系的課題番号
JP15K05736
配分額
(総額)
4,810,000円
(直接経費)
3,700,000円
(間接経費)
1,110,000円

太陽電池向け材料であるシリコン等のダメージフリー切断加工を目的とした、新たな砥粒フリースライシング法の開発を行った。本加工法は、化学液を加工物に供給しながらワイヤで擦過を行うものであり、従来技術よりも切断幅(カーフロス)を低減させることができる。本研究では、開発技術における加工速度の向上、マルチワイヤ加工、加工物サイズのスケールアップ、フッ酸フリー加工の検討を行った。その結果、従来の機械加工法に比べて、加工速度に課題がみられたものの、より小さなカーフロスでマルチ加工を施すことが可能となった。毒性の高いフッ酸を使用しない加工法として、光ファイバを利用したエッチング法を開発した。

リンク情報
URL
https://kaken.nii.ac.jp/file/KAKENHI-PROJECT-15K05736/15K05736seika.pdf
KAKEN
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K05736
ID情報
  • 課題番号 : 15K05736
  • 体系的課題番号 : JP15K05736