斧髙一 (Kouichi Ono) - マイポータル

基本情報

所属: 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻工学研究科航空宇宙工学専攻教授,教授

学位: 工学博士(京都大学)

J-GLOBAL ID: 200901039341542318
researchmap会員ID: 1000288151

研究キーワード

研究分野

経歴

1995年 - 1998年

三菱電機株式会社先端技術総合研究所主幹研究員
1995年 - 1998年

三菱電機（株）
1998年

- 京都大学大学院工学研究科教授
1998年

- Kyoto University, Graduate School of Engineering, Professor
1992年 - 1995年

三菱電機株式会社半導体基礎研究所主任研究員
1992年 - 1995年

三菱電機（株）
1982年 - 1992年

三菱電機株式会社中央研究所研究員,主任研究員
1982年 - 1992年

三菱電機（株）

学歴

委員歴

2000年 - 2001年

日本航空宇宙学会, 関西支部幹事
1996年 - 1998年

応用物理学会, プラズマエレクトロニクス分科会副幹事長,幹事長,関西支部幹事
1993年 - 1996年

電気学会, 調査専門委員会幹事

受賞

論文

142

Silicon nanowire growth on Si and SiO2 substrates by rf magnetron sputtering in Ar/H2

I. Yamada, Y. Hirano, K. Nishimura, Y. Takao, K. Eriguchi, K. Ono

Applied Physics Express 8(6) 066201-1-4 2015年6月査読有り
Characterization of Plasma Process-Induced Latent Defects in Surface and Interface Layer of Si Substrate

Yoshinori Nakakubo, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY 4(6) N5077-N5083 2015年査読有り
Three-dimensional particle-in-cell simulation of a miniature plasma source for a microwave discharge ion thruster

Yoshinori Takao, Hiroyuki Koizumi, Kimiya Komurasaki, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY 23(6) 064004-1-11 2014年12月査読有り
Two modes of surface roughening during plasma etching of silicon: Role of ionized etch products

Nobuya Nakazaki, Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 116(22) 223302-1-20 2014年12月査読有り
Surface roughening and rippling during plasma etching of silicon: Numerical investigations and a comparison with experiments

Hirotaka Tsuda, Nobuya Nakazaki, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 32(3) 031212-1-21 2014年5月査読有り
Molecular dynamics simulations of silicon chloride ion incidence during Si etching in Cl-based plasmas

Nobuya Nakazaki, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(5) 056201-1-9 2014年5月査読有り
Structural, mechanical, and electrical properties of cubic boron nitride thin films deposited by magnetically enhanced plasma ion plating method

Masao Noma, Koji Eriguchi, Yoshinori Takao, Nobuyuki Terayama, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(3) 03DB02-1-7 2014年3月査読有り
Effects of straggling of incident ions on plasma-induced damage creation in “fin”-type fieldeffect transistors

K. Eriguchi, A. Matsuda, Y. Takao, K. Ono

Japanese journal of Applied Physics 53(3) 03DE02-1-6 2014年3月査読有り
Micro-photoreflectance spectroscopy for microscale monitoring of plasma-induced physical damage on Si substrate

Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(3) 03DE02-1-4 2014年3月査読有り
Effects of plasma-induced charging damage on random telegraph noise in metal–oxide–semiconductor field-effect transistors with SiO2 and high-k gate dielectrics

M. Kamei, Y. Takao, K. Eriguchi, K. Ono

Japanese Journal of Applied Physics 53(3) 03DF02-1-7 2014年3月査読有り
Effect of capacitive coupling in a miniature inductively coupled plasma source

Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 112(9) 093306-1-10 2012年11月査読有り
Modeling and Simulation of Nanoscale Surface Rippling during Plasma Etching of Si under Oblique Ion Incidence

Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51(8) 08HC01-1-7 2012年8月査読有り
Analytic Model of Threshold Voltage Variation Induced by Plasma Charging Damage in High-k Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor

Koji Eriguchi, Masayuki Kamei, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(10) 10PG02-1-7 2011年10月査読有り
Comparative Study of Plasma-Charging Damage in High-k Dielectric and p-n Junction and Their Effects on Off-State Leakage Current of Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors

Masayuki Kamei, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08KD05-1-5 2011年8月査読有り
Trade-Off Relationship between Si Recess and Defect Density Formed by Plasma-Induced Damage in Planar Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors and the Optimization Methodology

Koji Eriguchi, Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Masayuki Kamei, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08KD04-1-6 2011年8月査読有り
Advanced Contactless Analysis of Plasma-Induced Damage on Si by Temperature-Controlled Photoreflectance Spectroscopy

Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08KD03-1-7 2011年8月査読有り
Molecular Dynamics Analysis of the Formation of Surface Roughness during Si Etching in Chlorine-Based Plasmas

Hirotaka Tsuda, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08KB02-1-5 2011年8月査読有り
Three-Dimensional Atomic-Scale Cellular Model and Feature Profile Evolution during Si Etching in Chlorine-Based Plasmas: Analysis of Profile Anomalies and Surface Roughness

Hirotaka Tsuda, Hiroki Miyata, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08JE06-1-6 2011年8月査読有り
Model for Effects of RF Bias Frequency and Waveform on Si Damaged-Layer Formation during Plasma Etching

Koji Eriguchi, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08JE04-1-5 2011年8月査読有り
Particle Simulations of Sheath Dynamics in Low-Pressure Capacitively Coupled Argon Plasma Discharges

Yoshinori Takao, Kenji Matsuoka, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(8) 08JC02-1-6 2011年8月査読有り

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MISC

Atomistic Simulations of Plasma Process-Induced Si Substrate Damage - Effects of Substrate Bias-Power Frequency -

Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

2013 INTERNATIONAL CONFERENCE ON IC DESIGN AND TECHNOLOGY (ICICDT) 191-194 2013年査読有り
Microwave-Excited Microplasma Thrusters Using Surface Wave and Electron Cyclotron Resonance Discharges

Mori, Daisuke, Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Bulletin of the American Physical Society,57 (8), p. 22 2012年10月
Particle simulation of a micro inductively coupled plasma source including an external circuit

Takao, Yoshinori, Sakamoto, Masataka, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Bulletin of the American Physical Society,57 (8), p. 77 2012年10月
Miniature ion thruster using a cylindrical micro ICP

Y. Takao, K. Eriguchi, K. Ono

48th AIAA/ASME/SAE/ASEE Joint Propulsion Conference and Exhibit 2012 2012年査読有り
Optimization problems for plasma-induced damage - A concept for plasma-induced damage design

Koji Eriguchi, Yoshinori Nakakubo, Asahiko Matsuda, Masayuki Kamei, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

ICICDT 2012 - IEEE International Conference on Integrated Circuit Design and Technology 2012年査読有り
High-k MOSFET performance degradation by plasma process-induced charging damage - Impacts on device parameter variation

K. Eriguchi, M. Kamei, Y. Takao, K. Ono

IEEE International Integrated Reliability Workshop Final Report 80-84 2012年査読有り
Numerical analysis of inductive and capacitive coupling in radio-frequency micro discharges

Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Bulletin of the American Physical Society,56 (15), p. 36 2011年11月
Microwave-excited microplasma thruster with applied magnetic field

Kawanabe, Testuo, Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

IEPC Paper,, p. 262 2011年
Two-Dimensional Particle-in-Cell Simulation of a Micro RF Ion Thruster

Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

IEPC Paper,, p. 076 2011年
A new prediction model for effects of plasma-induced damage on parameter variations in advanced LSIs

Koji Eriguchi, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

2011 IEEE International Conference on Integrated Circuit Design and Technology, ICICDT 2011 2011年査読有り
PIC-MCC Simulations of Capacitive RF Discharges for Plasma Etching

Yoshinori Takao, Kenji Matsuoka, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

27TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON RAREFIED GAS DYNAMICS, 2010, PTS ONE AND TWO 1333(PART 1) 1051-1056 2011年査読有り
11-GHz Microwave-Excited Microplasma Source for Electrothermal Thruster

Takahashi, Takeshi, Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Bulletin of the American Physical Society,55 (7), p. 97 2010年10月
Particle Simulations of Sheath dynamics in Low Pressure Capacitively Coupled Argon Plasma Discharges

Takao, Yoshinori, Matsuoka, Kenji, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Bulletin of the American Physical Society,55 (7), p. 20 2010年10月
Numerical Analysis of a Micro Ion Thruster Using PIC/MCC Model

Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

AIAA Paper,, p. 6947 2010年
Modeling the effects of plasma-induced physical damage on subthreshold leakage current in scaled MOSFETs

Koji Eriguchi, Masayuki Kamei, Yoshinori Takao, Kouichi Ono

2010 IEEE International Conference on Integrated Circuit Design and Technology, ICICDT 2010 94-97 2010年査読有り
Study of Plasma-Induced "Si Recess Structure" and Its Effects on Threshold Voltage Variability in Advanced MOSFETs

Koji Eriguchi, Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Masayuki Kamei, Hiroaki Ohta, Kouichi Ono

2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON INTEGRATED CIRCUIT DESIGN AND TECHNOLOGY, PROCEEDINGS 101-104 2009年査読有り
Simulation and Experimental Study on the Characteristics of Plasma-Induced Damage and Methodology for Accurate Damage Analysis

Asahiko Matsuda, Yoshinori Nakakubo, Riki Ogino, Hiroaki Ohta, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON INTEGRATED CIRCUIT DESIGN AND TECHNOLOGY, PROCEEDINGS 97-100 2009年査読有り
Threshold voltage shift instability induced by plasma charging damage in MOSFETs with high-K Dielectric

K. Eriguchi, M. Kamei, K. Okada, H. Ohta, K. Ono

Proceedings - 2008 IEEE International Conference on Integrated Circuit Design and Technology, ICICDT 97-100 2008年査読有り
Analysis of Si substrate damage induced by inductively coupled plasma reactor with various superposed bias frequencies

Y. Nakakubo, A. Matsuda, M. Kamei, H. Ohta, K. Eriguchi, K. Ono

2008 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON INTEGRATED CIRCUIT DESIGN AND TECHNOLOGY, PROCEEDINGS 101-104 2008年査読有り
Mechanisms for junction degradation of advanced MOSFETs induced by plasma processing

M. Kamei, K. Eriguchi, K. Okada, K. Ono

Proceedings 2007 IEEE International Conference on Integrated Circuit Design and Technology, ICICDT 117-120 2007年査読有り

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書籍等出版物

プラズマエッチングにおけるナノスケール表面形状揺らぎ (解説)

斧高一, 中崎暢也, 津田博隆, 鷹尾祥典, 江利口浩二 (担当:共著)

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 90, No. 7 (2014), pp. 398-404. 2014年
プラズマナノ加工における表面ラフネスとリップル形成機構 (解説)

斧高一, 津田博隆, 中崎暢也, 鷹尾祥典, 江利口浩二 (担当:共著)

表面科学, Vol. 34, No. 10 (2013), pp. 528-534. 2013年
巻頭言「年頭所感：プラズマ科学とプラズマ応用」 (解説)

斧髙一

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 89, No. 1 (2013), pp. 1-2. 2013年
High-k 膜のドライエッチング, 「ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術－成膜技術と膜・界面の物性科学－」

斧髙一 (担当:分担執筆, 範囲:第5編, 第4章, pp. 295-308)

(エヌ・ティー・エス社, 2012) 2012年
先端プラズマエッチングプロセスのモデリングと体系化 (解説)

斧髙一

化学工業, Vol. 61, No. 6 (2010), pp. 457-465. 2010年
プラズマエッチングにおける表面反応機構, 「マイクロ・ナノデバイスのエッチング技術」

斧髙一 (担当:分担執筆, 範囲:第二編, 第2章, pp. 144-158)

式田光宏・佐藤一雄・田中浩監修 (シーエムシー出版, 2009) 2009年
高誘電体／電極材料エッチング技術, 「2009 半導体テクノロジー大全」

斧高一, 江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:第4編, 第4章, 第4節, pp. 299-305)

月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社、2009) 2009年
おわりに (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第8章) (解説)

斧髙一

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 210-211. 2009年
高誘電率 (High-k) 材料のドライエッチング (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第4章) (解説)

斧高一, 高橋和生, 江利口浩二 (担当:共著)

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 185-192. 2009年
ドライエッチングのモデルとその実験検証 (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第2章) (解説)

斧高一, 江利口浩二 (担当:共著)

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 165-176. 2009年
はじめに (小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面」, 斧高一監修, 第1章) (解説)

斧髙一

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 85, No. 4 (2009), pp. 163-164. 2009年
High-k膜のドライエッチング・クリーニング技術, 「ドライ・ウエットエッチング技術全集」

斧髙一 (担当:分担執筆, 範囲:第4章, 第6節, pp. 329-343)

青木良憲企画編集 (技術情報協会, 2009) 2009年
HfO2系 High-k 材料向け in-situ チャンバークリーニング技術の開発 (解説)

柴田俊格, 宮博信, 国井泰夫, 斧高一, 井上實 (担当:共著)

大陽日酸技報, No. 26 (2007), pp. 7-11. 2007年
高誘電体／電極材料エッチング技術, 「2007 半導体テクノロジー大全」

斧髙一 (担当:分担執筆, 範囲:第4編, 第4章, 第4節, pp. 296-301)

月刊 Electronic Journal 別冊 (電子ジャーナル社、2007) 2007年
マイクロプラズマスラスター (解説)

斧高一, 鷹尾祥典 (担当:共著)

応用物理, Vol. 76, No. 4 (2007), pp. 394-398 . 2007年
マイクロプラズマスラスタ－MEMSへの応用例－, 「マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用」

斧髙一 (担当:分担執筆, 範囲:第二編, 第7章, pp. 149-164)

橘邦英・寺嶋和夫監修 (シーエムシー出版, 2006) 2006年
高誘電体材料ドライエッチングガス (解説)

北川智洋, 斧高一, 大沢正典, 羽坂智, 井上實 (担当:共著)

大陽日酸技報, No. 24 (2005), pp. 8-15. 2005年
宇宙マイクロ・ナノ工学とシリコンナノサテライト連携研究計画 (解説)

斧高一, 福田武司 (担当:共著)

高温学会誌, 第31巻, 第5号 (2005), pp. 252-259. 2005年
誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率 HfO2 薄膜のエッチング (解説)

高橋和生, 斧高一, 節原裕一 (担当:共著)

表面技術, Vol. 55, No. 12 (2004), pp. 793-799. 2004年
半導体プラズマプロセスシミュレーションとTCAD (解説)

斧髙一

プラズマ・核融合学会誌, Vol. 80, No. 11 (2004), pp. 909-918. 2004年

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所属学協会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

先進的プラズマプロセス技術に関する研究

先端技術開発研究 2002年 - 2004年
先進的プラズマプロセス技術に関する研究

科学研究費補助金 2002年 - 2004年
ナノサテライトのためのマイクロプラズマスラスターに関する研究

科学研究費補助金 2002年 - 2004年
Study on Aduanced Plasma Processing Technology

0103 (Japanese Only) 2002年 - 2004年
Study on Aduanced Plasma Processing Technology

Grant-in-Aid for Scientific Research 2002年 - 2004年
Study on Microplasma Thruster for Nanospacecrafts

Grant-in-Aid for Scientific Research 2002年 - 2004年
気体およびプラズマと固体表面およびその微細構造との相互作用に関する研究

科学研究費補助金 2000年 - 2004年
気体およびプラズマと固体表面およびその微細構造との相互作用に関する研究

共同研究 2000年 - 2004年
反応性プラズマの電磁場下での物理的・化学的性質に関する研究

共同研究 2000年 - 2004年
Study on Gas- and Plasma-Surface Interactions including Micro- and Nano-Structures

Grant-in-Aid for Scientific Research 2000年 - 2004年
Study on Gas- and Plasma-Surface Interactions including Micro- and Nano-Structures

Cooperative Research 2000年 - 2004年
Study on Physical and Chemical Aspects of Reactive Gases and Plasmas

Cooperative Research 2000年 - 2004年

斧髙一

基本情報

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研究分野

経歴

学歴

委員歴

受賞

論文

MISC

書籍等出版物

所属学協会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

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