論文

2021年12月

Flexible Evanescent Wave Interference Lithography System for Sub-half-Wavelength Complex Relief Structures Fabrication

Nanomanufacturing and Metrology

Yuki Torii
Shuzo Masui
Yuki Matsumoto
Kunikazu Suzuki
Masaki Michihata
Kiyoshi Takamasu
Satoru Takahashi

巻: 4
号: 4
開始ページ: 256
終了ページ: 270
記述言語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
DOI: 10.1007/s41871-021-00104-8
出版者・発行元: Springer Science and Business Media LLC

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.1007/s41871-021-00104-8
URL: https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s41871-021-00104-8.pdf
URL: https://link.springer.com/article/10.1007/s41871-021-00104-8/fulltext.html

ID情報

DOI : 10.1007/s41871-021-00104-8
ISSN : 2520-811X
eISSN : 2520-8128

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