野瀬正照 (Masateru Nose) - マイポータル

基本情報

所属: 富山大学芸術文化学部教授

学位: Dr. of Engineering(Tohoku University)

J-GLOBAL ID: 200901046222705345
researchmap会員ID: 1000172886

外部リンク: http://www.tad.u-toyama.ac.jp

研究キーワード

研究分野

経歴

2001年 - 2005年

高岡短期大学教授
2005年

- 富山大学教授芸術文化学部
1994年 - 2001年

高岡短期大学助教授
1994年 - 2001年

Associate Professor, Takaoka National College
2001年

- Professor, Takaoka National College
1991年 - 1994年

アモルファス電子デバイス研究所主任研究員
1991年 - 1994年

Senior Researcher, Amorphous Magnetic Device Laboratory
1986年 - 1991年

住友特殊金属(株)研究開発部副主任部員
1986年 - 1991年

Assistant Research Manager, R&D, Sumitomo Special Metals
1977年 - 1986年

住友特殊金属(株)研究開発部員
1977年 - 1986年

Researcher, R&D Dept., Sumitomo Special Metals

学歴

委員歴

2008年

-（現在）日本金属学会欧文誌編集委員

受賞

2000年

研究進歩賞(粉体粉末冶金協会)
1984年

第43回注目発明（科学技術庁）

論文

OXIDATION RESISTANCE AND SELF HARDENING OF CrAlN/BN NANOCOMPOSITE COATINGS

Masateru Nose, Tomohiro Watanuki, Tokimasa Kawabata, Yuji Hatano, Kenji Matsuda, Ssusumu Ikeno

THERMEC 2011, PTS 1-4 706-709 2559-+ 2012年
Deposition of novel nanocomposite films by a newly developed differential pumping co-sputtering system

Masateru Nose, Takeshi Kurimoto, Atsushi Saiki, Kenji Matsuda, Kiyoshi Terayama

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 30(1) 011502 2012年1月査読有り
Mechanical properties and oxidation resistance of CrAlN/BN nanocomposite coatings prepared by reactive dc and rf cosputtering

M. Nose, T. Kawabata, T. Watanuki, S. Ueda, K. Fujii, K. Matsuda, S. Ikeno

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 205 S33-S37 2011年7月査読有り
Oxidation Resistance of CrAlN Films with Different Microstructures Prepared by Pulsed DC Balanced Magnetron Sputtering System

S. Khamseh, M. Nose, T. Kawabata, K. Matsuda, S. Ikeno

MATERIALS TRANSACTIONS 51(2) 271-276 2010年2月査読有り
Microstructure and Properties of TiAlN/a-C Nanocomposite Coatings Prepared by Reactive Sputtering

Masateru Nose, Tokimasa Kawabata, Sara Khamseh, Kenji Matsuda, K. Fujii, Susumu Ikeno, Wen-An Chiou

MATERIALS TRANSACTIONS 51(2) 282-287 2010年2月査読有り
MICROSTRUCTURE AND MECHANICAL PROPERTIES OF Cr-Al-B-N COATINGS PREPARED BY REACTIVE DC AND RF CO-SPUTTERING

Masateru Nose, Tokimasa Kawabata, Shouhei Ueda, Kaname Fujii, Kenji Matsuda, Susumu Ikeno

THERMEC 2009, PTS 1-4 638-642 781-+ 2010年
Nanostructured CrAlN Films Prepared at Different Pulse Widths by Pulsed DC Reactive Sputtering in Facing Target Type System

Sara Khamseh, Masateru Nose, Shohei Ueda, Tokimasa Kawabata, Takekazu Nagae, Kenji Matsuda, Susumu Ikeno

MATERIALS TRANSACTIONS 49(11) 2737-2742 2008年11月査読有り
Effect of Deposition Conditions on the Structure and Properties of CrAlN Films Prepared by Pulsed DC Reactive Sputtering in FTS Mode at High Al Content

Sara Khamseh, Masateru Nose, Tokimasa Kawabata, Atsushi Saiki, Kenji Matsuda, Kiyoshi Terayama, Susumu Ikeno

MATERIALS TRANSACTIONS 49(9) 2082-2090 2008年9月
鉛レス青銅合金の硫黄による表面処理とその形成層

長柄毅一, 野瀬正照, 三船温尚, 谷口隼人, 砂田聡

銅と銅合金 47(1) 101-106 2008年査読有り
硫黄表面処理を施したCu-Sn合金の電気化学的特性

砂田聡, 谷口隼人, 布村紀男, 長柄毅一, 三船温尚, 野瀬正照

銅と銅合金 47(1) 107-111 2008年査読有り
RF反応スパッタ法によるAl-O-Nコーティング膜の作製

野瀬正照, 川畑常眞, 上田祥平, 長柄毅一, 佐伯淳, 松田健二, 寺山清志, 池野進

粉体および粉末冶金 55(11) 795-800 2008年査読有り
Development of PVD-TiAlN/a-C Nanocomposite Coating for Pressure Die Casting Applications

Masateru Nose, Tokimasa Kawabata, Miki Ohi, Takekazu Nagae, Seiichi Masa, Yuji Hatano, Susumu Ikeno, Kiyoshi Nogi

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS 4 S681-S686 2007年4月査読有り
窒化物系ナノコンポジット硬質膜の構造と特性

野瀬正照

高温学会誌 33(2) 70-77 2007年
パルス通電加圧焼結法によるTi-Al-Siスパッタリングターゲットの作製

長柄毅一, 野瀬正照, 横田勝, 鈴木宏章, 奥村善雄, 穴田博, 野城清

粉体および粉末冶金協会誌 54(12) 809-815 2007年
Wettability of TiAlN films by molten aluminum

Ping Shen, Masateru Nose, Hidetoshi Fujii, Kiyoshi Nogi

THIN SOLID FILMS 515(4) 2009-2014 2006年12月査読有り
Influence of target material on the microstructure and properties of Ti-Si-N coatings prepared by r.f.-reactive sputtering

M Nose, Y Deguchi, E Honbo, WA Chiou, T Mae, K Nogi

MATERIALS TRANSACTIONS 46(8) 1911-1917 2005年8月査読有り
Influence of nitrogen on the structure and mechanical properties of r.f.-sputtered Cr-B-N thin films

M Zhou, M Nose, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 183(1) 45-50 2004年5月査読有り
反応スパッタ法による Ti-Al-Si-N ナノコンポジット膜の作製

野瀬正照, 鈴木宏章, 奥村善雄, 本保栄治, 前健彦, 穴田博, 野城清

粉体粉末冶金協会誌 51(11) 802-807 2004年査読有り
反応スパッタ法により作製した Ti-Al-Si-N ナノコンポジット膜の特性

野瀬正照, 鈴木宏章, 奥村善雄, 本保栄治, 前健彦, 穴田博, 野城清

粉体粉末冶金協会誌 51(11) 808-814 2004年査読有り
Structure and properties of Cr-B, Cr-B-N and multilayer Cr-B/Cr-B-N thin films prepared by. r.f.-sputtering

Y Sakamaoto, M Nose, T Mae, E Honbo, M Zhou, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 174 444-449 2003年9月査読有り

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MISC

Influence of nitrogen on the structure and mechanical properties of r.f.-sputtered Cr-B-N thin films

M Zhou, M Nose, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 183(1) 45-50 2004年5月
Structure and properties of Cr-B, Cr-B-N and multilayer Cr-B/Cr-B-N thin films prepared by. r.f.-sputtering

Y Sakamaoto, M Nose, T Mae, E Honbo, M Zhou, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 174 444-449 2003年9月
Influence of sputtering conditions on microstructure and mechanical properties of Zr-Si-N films prepared by radio-frequency-reactive sputtering

M Zhou, M Nose, Y Deguchi, T Mae, K Nogi

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 21(5) 1791-1795 2003年9月
Influence of sputtering conditions on the structure and properties of Ti-Si-N thin films prepared by r.f.-reactive sputtering

M Nose, Y Deguchi, T Mae, E Honbo, T Nagae, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 174 261-265 2003年9月
"Influence of sputtering condition on the microstructure and mechanical properties of r.f.- sputtered transiion meta nitride filmds"

Proceeding of TMS 2003 spring meeting, Edited by J.R.weertman Electron Microscopy 149-156 2003年
Microstructure and mechanical properties of Zr-Si-N films prepared by rf-reactive sputtering

M Nose, WA Chiou, M Zhou, T Mae, M Meshii

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS 20(3) 823-828 2002年5月
Microstructure and Mechanical Properties of Gas Atmized Aluminum Alloy Powder Compact Densified by Pulsed Current Pressure Sintering

MATERIALS TRANSACTIONS 43(3), 537-543 2002年
The effects of Si addition on the structure and mechanical properties of ZrN thin films deposited by an r.f. reactive sputtering method

T Mae, M Nose, M Zhou, T Nagae, K Shimamura

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 142 954-958 2001年7月
Colorimetric properties of ZrN and TiN coatings prepared by DC reactive sputtering

M Nose, M Zhou, E Honbo, M Yokota, S Saji

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 142 211-217 2001年7月
Properties of Zr-Si-N coatings prepared by RF reactive sputtering

M Nose, M Zhou, T Nagae, T Mae, M Yokota, S Saji

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 132(2-3) 163-168 2000年10月
Annealing effects on the structure and mechanical properties of r.f.-sputtered Cr-B hard thin films

M Zhou, M Nose, Y Makino, K Nogi

THIN SOLID FILMS 359(2) 165-170 2000年1月
The Influence of Substrates on the Evaluation of Mechanical Properties of CrB Thin Films.

Zhou Min, Nose Masateru, Nogi Kiyoshi

ISIJ International 40(Suppl) S64-S67 2000年
Electrical and colorimetric properties of TiN thin films prepared by DC reactive sputtering in a facing targets sputtering (FTS) system

M Nose, T Nagae, M Yokota, S Saji, M Zhou, M Nakada

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 116 296-301 1999年9月
New Cr-B hard coatings by r.f.-plasma assisted magnetron sputtering method

M Zhou, M Nose, Y Makino, K Nogi

THIN SOLID FILMS 343 234-237 1999年4月
Characterization of Ti(NxOy) coatings produced by the arc ion plating method

Y Makino, T Tanaka, M Nose, M Misawa, A Tanimoto, T Nakai, K Kato, K Nogi

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 98(1-3) 934-938 1998年1月
Application of Pulse Current Pressure Sintering (PCPS) to Al Alloy Powders, its Sintering Mechanism and Application to Sintering of Complex Shaped Parts

Proceedings of the 1998 Powder Metallurgy World Congress 1 284-289 1998年
Effect of Annealing on Magnetic Properties of Co-Ni-Mo-Zr Amorphous Alloys

Journal of Japan Institute of Metals 54(6) 729 1990年
ZERO-MAGNETOSTRICTION AND LOW FIELD MAGNETIC-PROPERTIES OF CO-TM-ZR AMORPHOUS-ALLOYS (TM=V, CR, MO OR W)

M NOSE, J KANEHIRA, S OHNUMA, K SHIRAKAWA, T MASUMOTO

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52(3) 1911-1913 1981年
Magnetic Properties of Amorphous Fe-Zr-B Alloys

Science Reports of the Research Institutes, Tohoku University, Series A 29(2) 254 1981年
Low Field Magnetic Properties of Co-Zr Base Amorphous Alloys

Proceeding of 4th Internationcl Conference on Repidly Quenched Metals 1191 1981年

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講演・口頭発表等

TEM study of aluminum oxynitride films prepared by reactive R.F. -sputtering

Li-Chung Lai, Masateru Nose, Wen-An Chiou, Atsushi Saiki

Microscopy and Microanalysis 2011 2011年8月
Oxidation resistance and self hardening of CrAlN/BN nanocomposite coatings

Masateru Nose, Tomohiro Watanuki

THERMEC' 2011 2011年8月招待有り
Mechanical properties and oxidation resistance of CrAlBN nanocomposite coatings prepared by reactive dc and rf cosputtering

12th Internantional Conference on Plasma Surface Engineering 2010年
Microstructure and Mechanical Properties of Cr-Al-B-N Coatings Prepared by Reactive D.C. and R.F. Co-Sputtering

Thermec'2009 2009年
Microstructure and Properties of Aluminum Oxynitride Films Prepared by R.F. ReactiveSputtering

7th Polish-Japanese Joint Seminar on Micro and Nano Analysis 2008年
Development of PVD-TiAlN/C Nanocomposite Coatings for Pressure Die-casting Applications

10th Internantional Conference on Plasma Surface Engineering, Poster session 2006年
Microstructure and Properties of Ti-Al-Si-N Coatings Prepared by r.f.-Reactive Sputtering in Facing Target-type Sputtering (FTS) System

AVS international Symposium, Anaheim 2004年
Influence of Sputtering Condition and Target Material on the Microstructure and Properties of Ti-Si-N Coatings Prepared by r.f.-Reactive Sputterinｇ

AVS international Symposium, Baltimore 2003年
Fabrication of Functionally Graded Material of Al/Al2O3 System Using Pulse Current Pressure Sintering Process

Proceedings of the 2003 World Congress of Powder Metallurgy and Particulate Materials 2003年
Influence of sputtering Condition on the microstructure and mechanical properties of r.f.-sputtered transition metal nitride films

Proceedings of TMS (The Minerals, Metals and Materials Society) 2003 spring meeting 2003年
Microstructure and Mechanical Properties of Al Sintered Compacts Consolidated by Pulse Pressure Sintering Process

Proceedings of the 2002 World Congress of Powder Metallurgy and Particulate Material 2002年
Influence of sputtering condition on the structure and properties of Ti-Si-N thin films prepared by r.f.-reactive sputtering

8th International Conference on Plasma Surface Engineering 2002年
Microstructure and Mechanical properties of Zr-Si-N films Prepared by r.f.-Reactive Sputtering

Joint Meeting of AVS international Symposium and IUVSTA 15th International Vacuum Congress 2001年
Consolidation of Aluminum Powder by Pulse Current Pressure Sintering Process

Proceedings of the 2000 World Congress of Powder Metallurgy 2000年
Colorimetric Properties of ZrN and TiN Coatings Prepared by DC Reactive

7th International Conference on Plasma Surface Engineering 2000年
New Zr-Si-N Thin Films Deposited by R.F. Reactive Sputtering Method

8thEuropean Conference on Application of Surface and Interface Analysis 1999年
Investigation on Cr-B-N Thin Films Deposited by R.F.-Plasma Assisted Deposition

8thEuropean Conference on Application of Surface and Interface Analysis 1999年
Application of Pulse Current Pressure Sintering (PCPS) to Al Alloy Powders, its Sintering Mechanism and Application to Sintering of Complex Shaped Parts

Proceedings of the 1998 Powder Metallurgy World Congress & Exhibition, 1998年
Electrical and Colorimetric Properties of TiN Thin Films Prepared by D.C. Re-active Sputtering in a Facing Targets Sputtering (FTS) System

6th International Conference on Plasma Surface Engineering 1998年
Mechanical Alloying ofNb-Al Powders and Spark Plasma Sintering of the MA

International Symposium on Designing Processing and Properties of Advanced Engineering Materials, 625, JSPS AEM 156 Committee 1997年

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所属学協会

Works(作品等)

CrAlN/BN系硬質薄膜の研究

2005年
アルミ・マグネシュウムダイカスト用金型の高性能化に関する研究

2002年 - 2004年
三元系窒化物薄膜の機械的性質

1998年 - 2001年
Mechanical Properties of Ternary Nitride Thin Films

1998年 - 2001年
反応スパッタ法によるTiN、ZrN膜の作製

1997年 - 2000年
Preparation of TiN and ZrN by Reactive Sputtering

1997年 - 2000年
MIGヘッドの特性向上に関する研究

1989年 - 1991年
Study on Improvement in Characteristics of Metal-In-Gap Recording Heads

1989年 - 1991年
磁気ディスク用磁性膜の開発

1987年 - 1990年
磁気ヘッド用Fe-Al-Si薄膜の磁気特性の向上

1987年 - 1988年
Improvement of Magnetic Properties of Fe-Al-Si Thin Films for Magnetic Recording Heads

1987年 - 1988年
(Fe, Co, Ni)-Zr系アモルファス合金の開発

1980年 - 1988年
Development of Amorphous (Fe, Co, Ni)-Zr Alloy System

1980年 - 1988年
スパッタリング用ターゲット材料に関する研究

1985年 - 1986年
Study on Sputtering Target Materials

1985年 - 1986年
Development of Magnetic Thin Films for Magnetic Recording Disk

芸術活動

共同研究・競争的資金等の研究課題

ナノコンポジット膜の構造と機械的性質
PVD法による新規な硬質薄膜の創製
ドライプロセスによる表面改質及び薄膜作製

その他の研究制度
スパッタ法による磁性薄膜の作製に関する研究

その他の研究制度
ドライプロセスによる硬質保護膜の作製に関する研究

その他の研究制度
Preparation of Decorative Coatings and its Color Specification

The Other Research Programs
Surface Modification by PVD

The Other Research Programs
Study on the preparation of magnetic thin films by sputtering method

The Other Research Programs
Study on the development of new materials by pulse discharge sintering

The Other Research Programs
Study on the preparation of hard coating films by dry process

The Other Research Programs

産業財産権

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