基本情報

所属
東北大学 国際集積エレクトロニクス研究開発センター 研究開発部門 准教授
工学部電子情報物理工学科
スピントロニクス学術連携センターCSRN
先端スピントロニクス研究開発センターCSIS
学位
博士(工学)(Osaka University)

J-GLOBAL ID
200901010307751821

外部リンク

規則合金のヘテロエピタキシャル成長
高品質な磁気抵抗素子を得るためには高度に制御されたエピタキシャル成長技術を確立する必要がある。r.f.およびd.c.マグネトロンスパッタ法を用いて規則合金および酸化物(極)薄膜のエピタキシャル成長のメカニズムの研究を行っている。

強的秩序とその操作に関わる研究
強誘電体およびマルチフェロイクスなど外場との相互作用の強い酸化物を用いた接合および界面を作製し、新しいスピン依存伝導現象、2次元電子ガスのスピン軌道相互作用を利用した高効率スピン-電荷変換に関わる研究を行っている。また、室温で動作する新規マルチフェロイックスの探索を行っている。

高周波スピンダイナミクス
スピントランスファートルクなどを利用した高周波スピンダイナミクスの研究を行っている。特に、高い結晶磁気異方性を有するL10規則合金を用いた強磁性トンネル接合素子において高周波スピンダイナミクスを電気的に検出し、不揮発性磁気メモリの高速動作時の物理的現象の理解および次世代の高周波スピン発振・検波の研究開発を行っている。

STT, SOT-MRMA集積デバイス
CMOSと3次元構造としたSTT, SOT-MRAM集積デバイスの実用化研究を行っている。サブナノ秒の高速磁化反転特性およびデータ熱安定性を300mmシリコンウェハー上に作製したSTT,SOT-MRAM素子を用いて評価している。また、マイクロマグネティックシミュレーションによる解析も行っている。


主要な論文

  215

MISC

  10

書籍等出版物

  3

講演・口頭発表等

  89

担当経験のある科目(授業)

  5

産業財産権

  9

学術貢献活動

  1

社会貢献活動

  7

その他

  13
  • 2016年2月 - 2016年2月
    YBCO高温超電導体にスピンポンピング法によりスピン流を注入する。Tc近傍でTcがスピン注入の影響により変化することが期待されており、Tcの新しい制御方法として注目されている。
  • 2014年1月 - 2014年1月
    BiFeO3ペロブスカイト構造はバルクではR3cであるが、エピタキシャル薄膜となると基板からの応力により結晶対称性が変化することが知られている。しかし、これまでに高精度の構造因子計算を行い、構造解析を行った例は少ない。また、電子線回折はX線回折に比べて波長が短いため広い逆格子空間の実験が可能である。本共同研究では日本側が高品質な試料を提供し、米国側が高精度の構造解析を行い、これまで明らかになってない結晶対称性について正確に評価する技術を確立することを目的とする。
  • 2013年4月 - 2013年4月
    高品質FePdエピタキシャル膜作製のためのスパッタターゲット開発
  • 2013年4月 - 2013年4月
    垂直磁気異方性を自由層としたトンネル磁気抵抗素子およびマルチフェロイックをもちいた新規トンネル磁気抵抗素子によりこれまでにない新しい機能性スピンデバイスを創製することを目的とする。
  • 2012年4月 - 2012年4月
    磁気センサーをもちいて微弱な脳磁図および心磁図を描くことを目的としており、現行のSQUIDの代替を目的としている。